冷冻蚀刻技术简介(续)

文献类型： 中文期刊

第一作者： 姜绍德

作者： 姜绍德

作者机构：

期刊名称： 中国兽医科技

ISSN： 1000-6419

年卷期： 1987 年 11 期

页码：

摘要： 《中国兽医科技》1985年第4期60～62页,对冷冻蚀刻技术作了概要的介绍。现将有关补充材料概述如下。 (一)在冷冻蚀刻装置中制备样品的复型膜时,如果真空度低于1×10~(-5)托时,则喷射的碳粒就会太大。太大的碳粒附于样品上就会掩盖样品的细微结构,这势必影响观察结果。所以使样品室的真空度维持在1×10~(-5)托～1×10~(-6)托是很重要的。 (二)实践中,要正确地掌握喷涂的方法、电流的大小及蚀刻的温度与时间。复型膜太薄时,说明喷涂不好。电镜下图像的反差不够,导致看不清楚;复型膜太厚时,虽然图像的反差会很好,但电镜下观察又困难(光点不亮—透过的电子束数量少),所以只好改用大孔经光栏并同时提高加速电压,以提高电子束的穿透能力。但加速电压如果太高时(不是常用的加速电压值),又会使复型膜中的铂粒子再结晶而形成再结晶

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