利用AFLP遗传连锁图定位大麦苗期对叶锈病的部分抗性基因

文献类型： 中文期刊

第一作者： 陈万权

作者： 漆小泉;R E Niks

作者机构：

关键词： 大麦叶锈病;数量抗性基因;重组自交系;小种专化性

期刊名称： 遗传学报

ISSN： 0379-4172

年卷期： 1999 年 06 期

页码： 690-694

收录情况： CSCD

摘要： 借助大麦染色体AFLP标记遗传连锁图和MapQTLV3．0作图软件，对大麦叶锈病的数量抗性基因（QRL）进行了定位分析，明确了大麦部分抗性品种Vada对叶锈病的潜育期由分别位于染色体1、2、6、7上离短臂末端79cM、186cM、58cM和117cM处的4个数量抗性基因所控制。发现位于第7染色体上的QRL存在着病菌致病类型的专化性。讨论了区间作图法（IM）和复合区间作图法（CIM）的优缺点，建议以多种方法构建QTL图谱，并优先标定共同检测到的QTL。

分类号： Q348

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