低氧与表观遗传学互作的研究进展

文献类型: 中文期刊

第一作者: 王会

作者: 王会;钟金城;柴志欣;朱江江;信金伟

作者机构:

关键词: 低氧应答;表观遗传;组蛋白修饰;DNA甲基化

期刊名称: 西南民族大学学报(自然科学版)

ISSN: 2095-4271

年卷期: 2017 年 06 期

页码: 557-561

摘要: 表观遗传学是指基因组DNA序列不发生改变的情况下,基因表达水平发生变化从而导致的可遗传表型变化的现象.表观遗传可通过与低氧诱导因子(HIF)家族协同作用,以促使细胞适应低氧环境,从而参与到低氧应答的调控过程中.现就表观遗传学通过以下四个方面与低氧应答进行综述:1)VHL与PDH3调控HIF稳定性;2)通过影响HIF-1α共激活复合物的活性、HRE位点的修饰、HIF结合位点或附近区域的染色质活性,阻止HIF与HRE位点结合;3)组蛋白脱甲基酶对低氧应答相关基因的转录调控;4)低氧环境引起细胞内整体的组蛋白修饰程度和DNA甲基化水平改变.

分类号: Q34

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