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外源补光对温室遮光部位黄瓜生长的影响

文献类型： 中文期刊

作者： 刘思宇 1 ;

作者机构： 1.黑龙江省农业科学院园艺分院

关键词： 黄瓜;温室;遮挡部位;生长;外源补光

期刊名称： 中国瓜菜

ISSN： 1673-2871

年卷期： 2016 年 29 卷 03 期

页码： 11-13

摘要： 为研究外源补光对温室遮光部位黄瓜生长的影响,以‘绿剑’旱黄瓜为试验材料,在冬季对模拟温室墙下的植株分别进行补光,并以未补光植株作为对照,分别测定了在不同光照条件下,植株生长过程中的营养生长情况、相关生理生化指标以及光合作用中相关生化指标的变化情况。结果表明:处理W1较WCK的产量提高了146.96%,处理E1较ECK的产量提高了245.15%,说明通过一定的外源补光,能够有效地提高受到遮挡植株的各方面生理指标,最终达到提高产量的目的。

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