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黑米花色苷酰化修饰红外光谱分析

文献类型: 中文期刊

作者: 谢凤英 1 ; 李凤凤 1 ; 张爽 1 ; 毕伟伟 1 ; 张秀玲 1 ; 张晓南 1 ;

作者机构: 1.东北农业大学食品学院;黑龙江省农业科学院大豆研究所

关键词: 黑米花色苷;酰基修饰;红外光谱测定;结构分析

期刊名称: 光谱学与光谱分析

ISSN: 1000-0593

年卷期: 2018 年 38 卷 08 期

页码: 2386-2389

收录情况: EI ; 北大核心 ; CSCD

摘要: 黑米花色苷易受外部环境影响发生降解致使局部分子结构破坏而使营养价值和保健功能有所下降。利用有机酸提供酰基对黑米花色苷进行修饰来提高花色苷结构的稳定性。利用红外光谱分析经咖啡酸酰化修饰黑米花色苷的结构变化。结果表明:黑米花色苷酰化修饰前后于官能团区3 650~3 200和1 680~1 620cm~(-1)处均有吸收峰,且其于指纹区1 282.68和1 277.51cm~(-1)处出现酚羟基吸收峰,于1 056.07和1 054.03cm~(-1)处出现醇羟基吸收峰,719.90和719.71cm~(-1)处出现苯环上C—H面外弯曲振动吸收峰。由此可见,黑米花色苷酰化修饰后主要结构框架仍为花色苷的芳环结构。此外,黑米花色苷酰化修饰前后于1 900~1 650cm~(-1)间1 714.28和1 728.13cm~(-1)处均出现共轭羰基的特征吸收峰,对应于可直接连接在苯环上的α-羰基结构,由此说明黑米花色苷结构中存在着酰基基团。黑米花色苷经酰化修饰后红外图谱于1 517.20cm~(-1)处出现新吸收峰,其正好处于1 800~900cm~(-1)双键(不含氢)伸缩振动区,指纹区876.65cm~(-1)处亦出现了苯环上的C—H面外弯曲振动吸收峰。与之相呼应在经二阶导数处理后红外光谱图中在2 500~2 000cm~(-1)间出现了新的波动,此波段为累积双键伸缩振动区,而官能团区3 650~3 200cm~(-1)间3 370.20cm~(-1)处的吸收峰正好处于多分子缔合区。由此可见,在咖啡酸作为酰基供体,酰化修饰黑米花色苷时由于分子间的重新缔合于结构中引入了新的酰基基团而呈现出一种双酰化的空间结构。黑米花色苷酰化结构中有机酸与糖链相连,将有机酸置于2-苯基苯并吡喃骨架的表面,这种堆积作用模式可以较好地抵抗水的亲核攻击和其他降解反应进而提高黑米花色苷结构的稳定性。

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