您好,欢迎访问黑龙江省农业科学院 机构知识库!

大豆模拟株型的研究

文献类型: 中文期刊

作者: 尹田夫 1 ;

作者机构: 1.黑龙江省农科院大豆研究所

期刊名称: 作物学报

ISSN: 0496-3490

年卷期: 1983 年 9 卷 03 期

页码: 205-211

摘要: 本文通过大豆株型模拟技术,运用电子计算机程序,讨论无限结英习性大豆品种模拟株型——塔形株型和碟形株型其顶、中、底冠层叶面积指数(LAI)垂直分布及光分布特征。研究塔形株型及碟形株型顶、中、底冠层光截获(RLI)对单株荚数(NPP),单株粒数(NSP),单株粒重(SWP),粒茎比(SSR),主茎荚数(PMS)及主茎每节荚数(PNMS)等产量性状形成的多元回归效应。结果表明顶冠层的光截获与上述六个产量性状均呈负相关;而中、底冠层的光截获则呈正相关。研究结果还表明:顶、中冠层叶面积指数与上述六个产量性状均呈高度显著负相关。作者认为,改良大豆株型,调整冠层结构,首要的是调整顶、中、底冠层 LAI 的垂直分布比例。因此,在大豆株型改良育种中筛选和创造顶冠层 LAI 较小的遗传背景是无限结英习性大豆株型改良的关键。

  • 相关文献
作者其他论文 更多>>