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大豆“两垄一沟”栽培法冠层中光分布特点的研究

文献类型: 中文期刊

作者: 胡立成 1 ; 丁希明 1 ; 姚远 1 ; 董丽华 1 ; 王以芝 1 ; 林蔚刚 1 ; 郭宇红 1 ;

作者机构: 1.黑龙江省农业科学院大豆研究所

关键词: 大豆;两垄一沟;叶面积指数;光照强度;干物质积累

期刊名称: 大豆科学

ISSN: 1000-9841

年卷期: 1993 年 04 期

页码: 283-288

收录情况: 北大核心

摘要: 本文于大豆鼓粒期(R_5)晴天条件下,对“两垄一沟”栽培法冠层内叶面积指数、光照强度、干物质积累的垂直分布特点进行了研究。结果表明,该栽培法整个冠层叶面积指数大。从冠层内空间分布看,叶面积指数最大值出现的植株部位高度比70cm大垄和50cm窄行平播低,中部的光照强度高。但冠层内消光系数小。说明“两垄一沟”栽培法改善了冠层中的光照条件,提高了光能的截获率,积累了更多的干物质。

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