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曝光温室黄瓜新品种津优36号

文献类型： 中文期刊

作者： 付海朋 1 ; 孔维良 1 ;

作者机构： 1.天津市农业科学院科润黄瓜研究所

关键词： 温室黄瓜;新品种;日光温室栽培;耐低温弱光;曝光;黄瓜研究所;杂交一代;植株长势

期刊名称： 农业知识(瓜果菜)

ISSN： 1000-8241

年卷期： 2007 年 000 卷 009 期

页码： 1

摘要： 津优38号是天津科润黄瓜研究所育成的杂交一代黄瓜新品种,该品种适合越冬日光温室及冬春日光温室栽培.津优38号植株长势中等,叶片中等大小,株形好,越冬日光温室栽培易于管理,通风透光好.耐低温弱光能力强,在我国北方12月至翌年2月上旬温室内最低温度6~8℃条件下,生长发育正常;在持续1星期阴天、雾天等弱光条件下,没有叶片上卷等弱光障碍出现.瓜条长棒状,顺直,畸形瓜少,一般瓜条长35厘米,瓜色亮绿,刺密,瘤适中,瓜把中等.

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