Resist process window characterization for the 45-nm node using an interferometric immersion microstepper

作者： Anatoly Bourov; Stewart A. Robertson; Stewart A. Robertson; Michael A. Slocum; Emil C. Piscani;

机构： Rochester Institute of Techology, 82 Lomb Memeorial Drive, Rochester, NY,USA, 14623; Rohm and haass Electronic Materials, 455 Forest St. Marlborough, MA, USA 01752; Amphibian Systems, 125 Tech Park Drive, Rochester, NY, USA 14623;

会议名称：Advances in resist technology and processing XXIII :

关键词： Interference immersion lithography process window Bossung photoresist

年份：2006

Fundamental parameter extraction for a dry/immersion hybrid photoresist for contact hole applications

作者： Stewart A. Robertson; Shintaro Yamada; Joanne M. Leonard;

机构： Rohn and haas Electronic materials, Marlborough, MA;

会议名称：Advances in resist technology and processing XXIII :

关键词： immersion lithography lithography simulatio diffusion co-efficients dissolution retes

年份：2006

A novel switchable BARC (SBARC) and process to improve pattern collapse and defect control

作者： Ching Yu Chang; D. C. Yu; J. H. Chen; John C. H. Lin; Burn J. Lin; James W. Thackeray; Vaishali Vohra; Vaishali Vohra; Tomoki Kurihara;

机构： Taiwan Semiconductor Manufacuring Company 8, Li-Hsin Rd.6. Hsinchu Science Park, Hsinchu, Taiwan 300-77; Rohm and Haas Electronic Materials, LLC 455 Forest St, Marlborough, MA USA 01752;

会议名称：Advances in resist technology and processing XXIII :

关键词： hydrophobic hydrophilic van der Waal force switchable cleving group BARC

年份：2006

Evaluating resist degradation during reactive ion oxide etching using 193 nm model resist formulations

作者： M. J. May; B. Mortini; C. Sourd; D. Perret; D. W. Chung; G. Barclay; C. Brochon; G. Hadziioannou;

机构： STMicroelectronics Crolles, 850 rue Jean Monnet, 38926, France; CEA/LETI, 17 Rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France; Roham and haas Electronic materials, 17 rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 9, France; Rohm and hassa Electronic Materials LLC, 455 Forest Steet, Marlborough, MA 01752, USA; Laboratoire d'Ingeniterie des Polymeres Pour les Hartes Technologes(LIPHTa), 25rue Becquerel, 67087 Strasbourg Cedex 2, France;

会议名称：Advances in resist technology and processing XXIII :

关键词： 193nm and 248nm resists chemical ajplification etch resistance oxide etch TGA FTIR AFM

年份：2006

HIGH PERFORMANCE RUBBER TO METAL ADHESIVES DESIGNED FOR SEVERE ENVIRONMENTS

作者： Thad Plasczynski;

机构： Rohm and Haas Company, West Alexandria, OH, USA;

会议名称：Rubber Bonding 2006

年份：2006

无核黄皮在海南的生物学特性及高产栽培技术

作者： ; 韩剑;

机构： 海南省农科院热带水果研究所,海南,海口,571100;

会议名称：中国科协2005年学术年会——农业分会场

会议举办方：中国科协%中国农学会

关键词： 无核黄皮 生物学特性 栽培 海南

年份：2005

海南瓜菜产业发展的优势、现状及对策

作者： 肖日新; 谢琼;

机构： 海南省农科院瓜菜研究所,海南省海口市,571100; 海南省农科院科研处,海南省海口市,571100;

会议名称：中国科协2005年学术年会——农业分会场

会议举办方：中国科协%中国农学会

关键词： 海南 瓜菜产业 瓜菜

年份：2005

海南岛黄灯笼辣椒病毒病的发生调查

作者： 王运勤; 吉训聪; 肖敏; 王健华;

机构： 海南省农业科学院植保所,海南省海口市,571100; 中国热带农业科学院热带生物技术研究所,海口市,571101;

会议名称：中国科协2005年学术年会——农业分会场

会议举办方：中国科协%中国农学会

关键词： 海南省 黄灯笼辣椒 病毒病

年份：2005

海南土壤磷素状况与磷肥在农业中的应用

作者： ; ^A谢良商^B1%^A潘顺秋^B2;

机构： ^A海南省农业科学院土壤肥料研究所;

会议名称：2005年全国低浓度磷肥发展研讨会

会议举办方：中国磷肥工业协会

关键词： 土壤磷素 磷肥 农业生产 施用方法

年份：2005

SLURRY BACKMIXING EFFECTS IN CMP ROTARY AND BELT POLISHERS

作者： Gregory P. Muldowney;

机构： Rohm and Haas Electronic Materials CMP Technologies, Newark, DE 19713 USA;

会议名称：International Symposium on Electrochemical Processes in ULSI and MEMS

年份：2005